Istraživanje induktivno vezane plazme pomoću optičke emisijske spektroskopije

U ovom radu se istražuje induktivno vezana kisikova plazma (ICP1) pomoću optičke emisijske spektroskopije. Glavni cilj ovog rada je dobivanje informacija o samoj plazmi, kao i o procesima koji se u njoj odvijaju, iz analize spektara. Osim korištenja spektroskopskih metoda, u jednom dijelu rada korišten je i dodatni mjerni uređaj – katalitička sonda, za određivanje koncentracije kisikovih atoma.

Induktivno vezana plazma, te njena spektroskopska analiza pomoću spektrometra ima veliki broj trenutačnih, kao i potencijalnih primjena. Jedna od najvažnijih primjena induktivno vezane plazme je u procesu proizvodnje različitih elektroničkih komponenti (jetkanje plazmom i naparavanje pojačano plazmom) koje su nezamjenjive u ogromnom broju uređaja koji se danas nalaze u širokoj uporabi. Ovakva plazma se primjenjuje i u modifikaciji različitih materijala [1], kao i u modifikaciji površina (npr. poboljšavanje efikasnosti solarnih ćelija, ili u industriji papira [2]). Potencijalna primjena induktivno vezane plazme je nov način sterilizacije materijala i tkiva, odnosno vrlo učinkovito uništavanje bakterija plazmom [3].